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印制電路板PCB廢水處理方法

作者: 編輯: 小清 來源: 發(fā)布日期: 2019.12.01
信息摘要:
印制電路板(PCB)廢水處理方法1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法:…

印制電路板(PCB)廢水處理方法

1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法:一種為酸析法,利用分流出來的廢酸液摻混進行攪拌,在酸性條件下(pH2.5~3.0),大多有機污染物可以析出:另一種催化法,將反應池中的廢水pH值調(diào)至2.5,向池中分別投加FeSO4催化劑、H2O2強氧化劑,反應一定時間后,消化分解廢液中的有機物,清液自動流入有機廢水調(diào)節(jié)池進行后續(xù)處理。

2.含氰廢水。此類廢水主要來自沉金工序的清洗過程。廢水主要含有COD及重金屬與氰形成的絡(luò)合物(Cu2+、Au2+、CN-)等污染物。此類廢水必須進行破氰處理,可采用堿性氯化法,在堿性條件下,分批投入NaClO氧化劑,使絡(luò)合物中的氰離子釋放出來,經(jīng)過兩級反應,使CN-離子生成穩(wěn)定無毒的CO2和N2,從而達到去除CN-的目的。主要反應式如下:

CN-+ClO-+H2O=CNCl↑+2OH-

CNCl+2OH-=CNO-+Cl-+H2O

2CNO-+3ClO-+H2O=2CO2↑+N2↑+3Cl-+2OH-

式①②為一級氧化反應,式③為二級氧化反應。式①產(chǎn)物氯化氫CNCl為易揮發(fā)的有毒物質(zhì),且在酸性條件下不穩(wěn)定。式②反應需控制pH值為11.0~12.0,ORP=350mV,反應時間一般在15min內(nèi)。式③反應需控制pH值為7.0~7.5,ORP=650mV,反應時間為30min。

3.在堿性條件下采用Na2S沉淀工藝。比較CuS、Cu(OH)2的溶度積,lgKsp(CuS)=35.2,lgKsp(Cu(OH)2)=19.66??梢娊饘倭蚧锏姆€(wěn)定常數(shù)大,易于沉淀,除銅效率高,且適用的值范圍大(pH值為9.5~11.0)。由于金屬硫化物在酸性條件下不穩(wěn)定,容易產(chǎn)生有毒氣體H2S,因此反應不能在酸性條件下進行。含氰廢水處理后排入綜合池。

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